光化學(xué)反應(yīng)裝置CY-GHX-DC技術(shù)參數(shù)：

型號：CY-GHX-DC多功能控溫光化學(xué)反應(yīng)儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

（二）小容量反應(yīng)部分

1.石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做）。

2.可同時(shí)處理8個(gè)樣品（或定做）。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度。

（三）大容量反應(yīng)部分

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（四）控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

大容量光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品配置：

光化學(xué)反應(yīng)裝置CY-GHX-DC光化學(xué)過程是地球上普遍、量重要的過程之一，綠色植物的光合作用，動物的視覺。涂料與高分子材料的光致變性，以及照相、光刻、有機(jī)化學(xué)反應(yīng)的光催化等，無不與光化學(xué)過程有關(guān)。
近年來得到廣泛重視的同位素與相似元素的光致分離、光控功能體系的合成與應(yīng)用等，更體現(xiàn)了光化學(xué)是一個(gè)活躍的領(lǐng)域。光化學(xué)反應(yīng)與一般熱化學(xué)反應(yīng)相比有許多不同之處，主要表現(xiàn)在：加熱使分子活化時(shí)，體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布；而分子受到光激活時(shí)，原則上可以做到選擇性激發(fā)。體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學(xué)反應(yīng)儀的途徑與產(chǎn)物往往和基態(tài)熱化學(xué)反應(yīng)不同。
光化學(xué)研究反應(yīng)機(jī)理的常用實(shí)驗(yàn)方法，除示蹤原子標(biāo)記法外，在光化學(xué)中早采用的猝滅法仍是有效的一種方法。這種方法是通過被激發(fā)分子所發(fā)熒光，被其他分子猝滅的動力學(xué)測定來研究光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理的。它可以用來測定分子處于電子激發(fā)態(tài)時(shí)的酸性、分子雙聚化的反應(yīng)速率和能量的長程傳遞速率。
由于吸收給定波長的光子往往是分子中某個(gè)基團(tuán)的性質(zhì)，所以光化學(xué)提供了使分子中某特定位置發(fā)生反應(yīng)的手段，對于那些熱化學(xué)反應(yīng)缺乏選擇性或反應(yīng)物可能被破壞的體系更為可貴。光化學(xué)反應(yīng)的另一特點(diǎn)是用光子為試劑。
光化學(xué)的初級過程是分子吸收光子使電子激發(fā)，分子由基態(tài)提升到激發(fā)態(tài)。分子中的電子狀態(tài)、振動與轉(zhuǎn)動狀態(tài)都是量子化的，即相鄰狀態(tài)間的能量變化是不連續(xù)的。因此分子激發(fā)時(shí)的初始狀態(tài)與終止?fàn)顟B(tài)不同時(shí)，所要求的光子能量也是不同的，而且要求二者的能量值盡可能匹配。
光物理過程可分為輻射弛豫過程和非輻射弛豫過程。輻射弛豫過程是指將整體或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉，分子回到基態(tài)的過程，如發(fā)射熒光或磷光；非輻射弛豫過程是指多余的能量整體以熱的形式耗散掉，分子回到基態(tài)的過程。
決定一個(gè)光化學(xué)反應(yīng)儀的真正途徑往往需要建立若干個(gè)對應(yīng)于不同機(jī)理的假想模型。找出各模型體系與濃度、光強(qiáng)及其他有關(guān)參量間的動力學(xué)方程，然后考察實(shí)驗(yàn)結(jié)果的相符合程度，以決定哪一個(gè)是可能的反應(yīng)途徑。一旦被反應(yīng)物吸收后，不會在體系中留下其他新的雜質(zhì)，因而可以看成是“純"的試劑。

光化學(xué)反應(yīng)儀CY品牌系列主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測定反應(yīng)動力學(xué)常數(shù)，測定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
    目前，各種干擾在各類工業(yè)現(xiàn)場中均存在，所以儀表及控制系統(tǒng)的可靠性直接影響到現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)裝置安全、穩(wěn)定運(yùn)行，系統(tǒng)的抗干擾能力是關(guān)系到整個(gè)系統(tǒng)可靠運(yùn)行的關(guān)鍵。隨著DCS、現(xiàn)場總線技術(shù)的應(yīng)用，被控對象和被測信號往往分布在各個(gè)不同的地方，并且他們與控制站之間也有相當(dāng)長的距離，因此，信號線和控制線均可能是長線。其次，現(xiàn)場往往有許多強(qiáng)電設(shè)備，它們的啟動和工作將對測控系統(tǒng)產(chǎn)生強(qiáng)烈的影響。同時(shí)來自空間的輻射干擾、系統(tǒng)外引線干擾等問題尤為突出。因此，除有用信號外，由于各種原因必然會有一些與被測信號無關(guān)的電流或電壓存在，這種無關(guān)的電流或電壓通稱“干擾（噪聲）"。在測量過程中，這些干擾若不能很好地處理，那它將歪曲測量結(jié)果，嚴(yán)重時(shí)甚至使儀表或計(jì)算機(jī)不能工作。大量實(shí)踐說明，抗干擾性能是各種電子測量裝置的一個(gè)很重要的問題，尤其是DCS、現(xiàn)場總線技術(shù)的廣泛應(yīng)用和迅速發(fā)展，有效地排除和抑制各種干擾，已成為必需探討和解決的迫切問題，因?yàn)楦蓴_不僅能造成邏輯混亂，使系統(tǒng)測量和控制失靈，以致降低產(chǎn)品的質(zhì)量，甚至使生產(chǎn)設(shè)備損壞，造成事故。因此，抗干擾技術(shù)在儀表測控系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。